抗生素的不合理使用导致抗性细菌及抗性基因的大量产生，已经成为全球关注的焦点问题，据估计到2050年将会有每年上千万人因此而死亡。氯和紫外等水处理消毒技术虽然能够较为有效地杀灭抗性细菌，但并没有从根本上消除抗药性风险，因为抗性基因仍然保持活性。然而，氯和紫外等传统消毒技术很容易受水中污染物干扰，不能有效去除抗性基因。因此，发展具有选择性的抗性基因降解技术势在必行。

       公司袁青彬老师和莱斯大学Alvarez J.J. Pedro教授合作，利用分子印迹能够选择性识别污染物的特征，开发了基于DNA分子印迹的抗性基因选择性光降解技术。本项目将DNA分子印迹负载到非金属和环境友好的C₃N₄光催化材料表面，能够选择性地识别抗性基因，经过紫外光（360nm）降解30min即可降解超过99.9%的抗性基因，在模拟污染物和实际污水中均表现出良好的选择性。此外，负载DNA分子印迹的C₃N₄还有效地实现抗性基因片段化降解，从而避免了抗性基因的再修复和重新表达。该技术为城市污水等环境中抗药性的控制提供了新思路。

       研究成果已被环境科学类环境科学与工程领域顶级期刊Environmental Science & Technology接收，并于近日在线刊出，公司为第一单位。该研究受国家自然科学基金资助。

论文链接：https://pubs.acs.org/doi/10.1021/acs.est.9b06926

作者：77779193永利；审核：张永军